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主要負責光學臨近修正（OPC）技術的研發和應用，專注于優化光刻工藝，確保設計圖形在制造中精確轉移：
核心職責包括：
?1、模型開發與驗證?：建立光刻過程的物理模型，分析光學衍射效應，校正設計圖形與實際制造結果之間的偏差；同時設計測試圖形，收集SEM數據驗證模型準確性，確保模型可靠性和穩定性
2、?工藝優化與問題解決?：針對量產中的缺陷問題，優化OPC菜單和掩膜配方，解決弱點和缺陷；包括設計測試掩膜、分析晶圓數據，并與光刻、刻蝕等團隊協作，提供技術方案以提升制造流程效率和質量。
3、流程建立與標準化?：參與OPC標準流程的制定、改進和轉移，例如協助研發部門到光罩廠的技術轉讓，確保OPC數據按期高質量交付，并優化生產周期以減少延遲。
4、自動化與技術支持?：編寫Python或Perl等腳本實現工作流程自動化，提升效率和準確性；為客戶提供軟件使用培訓、現場技術支持，并作為客戶與內部開發團隊的溝通橋梁，解決工藝研發中的挑戰。
5、跨團隊協作與創新?：與上下游部門緊密配合，監控測試進度和模型質量；同時追蹤行業前沿技術，參與OPC軟件產品的定義和優化，推動新方法開發以應對先進工藝需求